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总质损

标准号:GJB 2203-94   标准名称:卫星产品洁净度及污染控制要求       1994-12-13

基本信息

【名称】 总质损
【英文名称】 total mass loss(TML)
【定义】 含有可凝挥发物的材料取样,在规定的温度和真空条件下,在给定的时间内损失的总质量 与取样的初始质量之比。通常以百分比表示。测定方法见QJ 1558规定。

同源术语

·洁净度等级按单位面积或体积中污染物的尺寸、数量和分布规定的最大允许量划分的等级。
·污染控制为保证产品洁净度而采取的所有防污染措施和活动。
·尘粒尺寸为0.001~1000μm的颗粒状固体和液体物质。
·尘粒尺寸按尘粒的目视最大线性尺寸或直径表示的尘粒大小。
·重要表面具有洁净度等级要求的产品表面。
·非挥发性残留物挥发性液体挥发后留存的可溶性物质,或者用专门分析仪器测定的不可挥发物。通常以单 位体积内或单位面积上污染物的毫克数来度量。
·可凝挥发物在高温、低压、真空条件下,构件、材料或污染源解吸、分离或分解出的可凝结在低温表面 上的气体物质。
·收集的可凝挥发物材料取样在规定的温度和真空条件下,经过给定的温度和时间内收集表面上可凝挥发物 的质量与该取样的初始质量之比。通常以百分比表示。测定方法见QJ 1558规定。
·洁净室采用各种污染控制和污染物清除方法,限制空气悬浮尘粒或其它污染物的浓度在规定的 标准值以下的一种封闭性区域。
·遮蔽因子由尘粒物质沉降所覆盖的面积与总面积之比。通常以ppm(百万分之一)表示。
·中间清洗卫星产品或工件在粘接、焊接和涂覆等工序前的清洗。
·最终清洗卫星产品在组装、总装或发射前的清洗。
·目视清洁在30~60cm的距离,540~1600lx的斜射白光照度条件下,正常裸视所观测或感觉到的 清洁状态,大致相当于300ppm以下的表面遮蔽因子或低于1×10-6g/cm2 有机污染所对应的 洁净度。

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