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熔蚀(浸析)

标准号:GJB 4152-2001   标准名称:多层瓷介电容器及其类似元器件剖面制备及检验方法       2001-05-31

基本信息

【名称】 熔蚀(浸析)
【英文名称】 leaching
【定义】 表面安装片式元件端部金属化层在熔化焊料中被熔解并融人焊料熔液中的一种现象。

同源术语

·固定为制备样品剖面而将样品粘在样品环内的胶带上准备浇铸的过程。
·浇铸样品固定之后,在其周围和上面灌注未聚合成形的浇铸材料并使其固化而定位的过程。
·包封层在机械和电气上起保护元器件芯组作用并具有一定几何形状的绝缘层。
·界面层状结构元器件相邻两层之间的结合面。
·端部金属化层表面安装片式元件两端的金属化层系统,包括端部金属化带和端头金属化层两部分.见图1。
·阻挡层在表面安装片式元件的端部初始金属化层上淀积的一层铜或镍,目的是为元件在熔化焊料中处理时 提供一层防护,以使其免遭熔蚀作用。
·焊缝焊料将两个被焊构件(如封装外壳与盖板、电极与引线等)连接在一起的外部可见部分,其特点是焊 料与被焊构件融汇在一起,表面平滑、逐渐收敛且略呈凹陷状态。
·焊料填充焊料在两个被焊构件之间的空隙内的堆积,这种堆积构成了焊料连接。
·焊料润湿熔化的焊料与被加热的基底金属表面融合而形成的一种原子界面状态(通常要借助于松香之类的助 焊剂),在此状态下,液态焊料与基底金属表面的夹角通常小于75o,焊料与基底金属充分结合,其粘接面 积在理想的情况下为100%。
·冷焊表征焊料再流动性差、被焊金属表面润湿不良的一种焊料连接状态。这种焊料连接(焊点或焊缝)表 面无光泽、疏松并呈颗粒状,内部过分疏松并有可能夹杂一些焊剂小泡。
·引入缺陷样品在试验分析期间由试验方法所引起的缺陷或异常。
·起层两层材料之间或电极层与介质层之间界面上出现的分离。
·裂纹同-种材料(如焊料、包封料或陶瓷)中的分离或裂缝。
·应力释放裂纹层状结构元器件(如多层瓷介瓷介电容器)在研磨抛光制备剖面过程中,通常在样品剖面的外部两、 三层内出现的一种裂纹,其原因往往是由于被研磨抛光的样品固定前未去掉包封层,或因边沿支撑不足 而引入的。这种裂纹不是缺陷,因此无须加以评定。
·微裂只有在较高放大倍数下(通常在150倍以上)借助于间接照明或暗场或偏振光才能看到的细小裂纹。 真正的微裂是由于构件内部的应力或这种应力的释放而产生的。
·空隙元器件内部结构中的-种中空的空间。
·针孔元器件表面上的一种直径很小且有一定深度的圆形开口洞穴。
·外来物在样品上或在其内部发现的不是元器件正常组分的任何物质。
·剥落在制备剖面的研磨或抛光过程中,在样品表面不希望出现的破碎、散落和材料逸出,这是在空隙、起 层或其他无支撑边沿周围的一种特有现象。
·表面起伏在经过研磨或抛光的样品剖面上,各种材料因硬度不同致使磨削速率不同而形成的平直度上的差 异。手工抛光可能会产生明显的表面起伏。

相关术语

·金属化层的粘附不良不是由于设计要求而出现的金属化层材料与下面基板的分离,空气桥和由设计切去金属层下部的情 况除外。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序)
·多层布线金属化层(导体 )用于起互连作用的双层或多层金属或任何其他导电材料,这几层材料之间用绝缘材料(也称为层间 介质)彼此隔离(见图 3)。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序)
·工作金属化层(导体)用作起互连作用的所有金属层或任何其他导电材料层,不包括金属化的划片槽、测试图、未连接的 功能电路元件、不使用的键合区和识别标志。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序)
·金属化层通孔多层金属化层中-层与另-层的连接通道。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序)
·工作金属化层导体用作互连的所有金属层或任何其他材料层,不包括金属化的划片槽、测试图形、未连接的功能电路 元件、不用的键合区和识别标志。
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·通孔金属化层是电气上把基板顶部表面金属化与基板背面连接起来的金属化层。
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·一般金属化层(导体)指除了钝化层台阶、鸟嘴、跨接等不平整表面区以外所有区域上的金属层,包括实际接触窗口上的 金属层(条)。
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·多层金属化层(导体 )起电连接作用的两层或多层金属,各层金属之间未用生长或淀积的绝缘材料层隔开。“下层金属” 是指顶层金属化层下面的任一层金属。
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·多层布线金属化层(导体)单层金属或多层金属均代表多层布线层中的一层。将几层组合在一起,相互间用生长或淀积的绝缘 材料层隔开,就构成了多层布线金属化层互连系统。用通孔通过绝缘层在某些部分有选择性地将不同层 金属化层连在一起不影响本定义。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序)
·工作金属化层(导体)用作互连的所有金属化(金、铝或其他材料);键合区就是工作金属化,而对准标志、测试图形和识 别标记则不是工作金属化。
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