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金属化键合区孔隙

标准号:GJB 1420B-2011   标准名称:半导体集成电路外壳通用规范       2011-12-25

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图 A.2(续)
关键键合区
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上翻
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陶瓷凸起和凹坑
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陶瓷飞边或毛刺
陶瓷斑点、异物及镀金
连接区凸起和凹坑
连接区孔隙
图 A.12(续)
图 A.12(续)
连接区金属化斑点和绝
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印制线孔隙
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金属化密封区凸起和凹
图 A.18(续)
金属化密封区孔隙
封区塌陷与金属化延伸
图 A.20(续)
金属化密封区与芯腔中
金属化密封区凸起、凹
金属密封区与芯腔中心
金属密封区旋转错位
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金属化键合区斑点与绝
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芯片粘接区孔隙
芯片粘接区金属化上翻
引线孔隙
图 A.31(续)
图 A.31(续)
引线凸起和凹坑
图 A.32(续)
引线飞边或毛刺
图 A.33(续)
引线缺损
图 A.34(续)
引线焊接位置
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