全文阅读 全文下载 章节阅读

基本信息

【范围】	本规范规定了砷化镓抛光片的要求、质量保证规定和交货准备等。 本规范适用于制造光电器件和电子器件用的砷化镓抛光片。
【与前一版的变化】

引用文件/被引文件

GB/T 1555

半导体单晶晶向测定方法

GB/T 6618

硅片厚度和总厚度变化测试方法

GB/T 6619

硅片弯曲度测试方法

GB/T 6621

硅抛光片表面平整度测试方法

GB/T 6624

硅抛光片表面质量目测检验方法

GB/T 8760

砷化镓单晶位错密度的测量方法

GB/T 13387

电子材料晶片参考面长度测量方法

GB/T 14844

半导体材料牌号表示方法

GJB 179A-1996

计数抽样检验程序及表

SJ/T 3249.2

半绝缘砷化镓中碳浓度的红外吸收测试方法

SJ/T 3249.3

半绝缘砷化镓中铬浓度的红外吸收测试方法

SJ/T 3249.4

半绝缘砷化镓中 EL2 浓度的红外吸收测试方法

ASTM VF613

硅片直径测试方法

ASTM VF928

硅片边缘轮廓测试方法

相关标准

·GJB 2834-97

空间太阳电池用砷化镓单晶和抛光片规范

·GJB 8512-2015

空间太阳能电池用锗单晶抛光片规范

·GJB 2918A-2017

探测器级高阻区熔硅单晶抛光片规范

·JB/T 5590-1991

光谱仪器用滤光片

·JB/T 11532-2013

线性渐变中性密度滤光片

·QJ 1697-1989

红外干涉滤光片通用技术条件

·SJ/T 11503-2015

碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法

·SJ/T 11489-2015

低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法

·SJ 20714-1998

砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法

·SJ/T 11504-2015

碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法

包含图表

电学性能	电学性能	半绝缘砷化镓单晶抛光
砷化镓抛光片位错密度	电子器件用砷化镓抛光	光电器件用砷化镓抛光
砷化镓抛光片的取向和	砷化镓抛光片的表面质	检验项目及取样
砷化镓抛光片的标识	刻槽图示	晶片边缘轮廓
表面取向 A 参考面逆	表面取向 A 参考面顺	表面取向 B 参考面逆
表面取向 B 参考面顺	表面取向 C 和参考面