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基本信息

GJB 762.3-89
半导体器件辐射加固试验方法γ瞬时辐照试验
Testing methods for radiation Hardness of semiconductor devices Testing for gamma transient irradiation
1989-08-24
1989-12-31
有效
核工业部九院十所
核工业总公司
国防科学技术工业委员会
试验电路;剂量率;半导体器件;试验方法;辐射脉冲
【范围】 1.1 主题内容 本标准规定了半导体器件(分立器件、微电路)在规定条件下进行 γ 瞬时辐照的试验方法。 1.2 适用范围 本标准适用于初始光电流辐照试验、辐射引起的闭锁试验、数字微电路翻转的剂量率阈值 试验、线性微电路的剂量率响应试验,不适用于半导体分立器件和微电路的 γ 总剂量辐照试 验。
【与前一版的变化】

包含术语

剂量率响应在给定剂量率的辐射脉冲作用下,处于工作状态的半导体器件电参数的瞬态变化称为剂 量率响应。
初始光电流由于电离辐射在P—N结附近产生大量的电子——空穴对,过量的电荷载流子穿过P—N 结而构成的电流称为初始光电流。
稳态初始光电流辐射脉冲宽度最低限度必须超过半导体器件少数载流子寿命的一倍所产生的初始光电 流。
非稳态初始光电流辐射脉冲的宽度不超过半导体器件少数载流子寿命的一倍所产生的初始光电流。
辐射引起的闭锁深闭锁:深闭锁是一种持续性(或大于100μs)的功能失效,如果在这期间器件尚未烧毁,可 通过切断偏置电源,中止其错误的工作状态。 初始闭锁:初始闭锁是一种非持续性(小于100μs)的功能失效。
定态集成电路输出是输入的唯一函数,而且只有当输入变化时,输出才变化的电路(如“与”、“或”门等)。
非定态集成电路输出不是输入的唯一函数的集成电路(如触发器、移位寄存器等)。
翻转的剂量率阈值引起工作的数字集成电路的瞬态输出电压大于规定的最大低电平(对低电平输出状态)、 或小于规定的最小高电平(对高电平输出状态)、或引起任一存贮数据变化的剂量率称为该数 字集成电路翻转的剂量率阈值。
辐射脉冲有效宽度(teff)辐射脉冲波形的面积与峰值高度之比。

引用文件/被引文件

半导体器件总规范
修改单半导体分立器件总规范
微电路总规范
放射卫生防护基本标准
电气图用图形符号
半导体分立器件试验方法
应用热释光剂量测量系统确定电子器件吸收剂量的方法

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军用设备环境试验方法太阳辐射试验
军用装备实验室环境试验方法 第7部分:太阳辐射试验
半导体分立器件高频小功率晶体管空白详细规范

包含图表

电阻取样电路
电流交换器取样电路
剂量率系数
剂量率系数
剂量率
电阻取样电路A的光电
电阻取样电路B的光电
电流变换器取样电路的
试验电路举例

标准反馈


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